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纳米稀土粉体产品
抛光粉体:氧化铈/氧化铝/氧化铬
一.氧化铈抛光粉 :

【应用领域】

    1. 各类光学元件(透镜、棱镜等)、人工晶体的高精密加工;
    2. 超薄平板玻璃基片的平坦化加工;
    3. 玻壳、镜片、表门的高速抛光;
    4. 大理石、水晶玻璃饰品的表面加工。

【产品性能】

Repolix 氧化铈抛光粉产品的特色

(1) 抛光精度更高

采用纳米合成技术,通过控制沉淀过程的晶体形成与生长并防止焙烧过程的团聚,使得抛光粉颗粒更细、更均匀,所加工产品的成品率大大提高。

(2) 不同抛光工艺所用的抛光粉的性能各具特色

尽管过筛目数相同,但古典法低速抛光所用产品密度大、易沉降,而高速抛光工艺所用抛光粉具有悬浮性好,易重新分散,不产生泡沫,易清洗的特点,大大方便了工人的操作。

(3)品种齐全,更多选择

我公司采用纯氧化铈、镧铈富集物和混合稀土三种不同含铈量的稀土原料,配合不同的生产工艺,生产四大类18种各具特点的抛光粉产品,以满足用户对性能、价格等多层次的需求。

(4)质量优良, 价格最优

由于本公司以稀土新产品开发为主营业务,因而在稀土原料的的获取和规模化生产方面具有优势,保证了产品价格的竞争力,力争做到产品的性能价格比最优。

【技术指标】

氧化铈磨料

型号
产品特性
颗粒大,浅黄色,比重大,流动性好。
应用领域
水晶、饰品抛光盘(粉盘); 聚胺酯抛光片、抛光轮添加材料; 抛光蜡板添加; 古典低速光学加工,尤其是透镜等球面加工; 磨边与手修处理;
化学成分
TREO>99%, CeO2/TREO>99.9%
颗粒度
D10
> 15
> 12
> 8
> 6
> 4
> 1
D50
28±5
24±2
20±2
16±2
12±2
4±2
D90
< 80
< 60
< 45
< 32
< 24
< 12

纯氧化铈抛光粉

型 号
产品特性
纯氧化铈抛光粉,颜色浅黄。悬浮性好,硬度中等。
适用领域
用于ZK、LaK等较软玻璃材料的快速抛光或较硬材料的高精度抛光,如玻璃磁盘,IC光掩膜、硅片等。
化学成分
TREO>95%, CeO2/TREO>99.9%
颗粒度
D10(um)
> 1.0
> 0.3
> 0.8
> 1.0
D50(um)
0.5±0.2
1.2±0.2
1.8±0.2
2.6±0.4
D90(um)
<4.0
< 5.0
< 6.0
< 10

富铈稀土抛光粉

型 号
产品特性
富铈抛光粉,白色,硬度较高,悬浮性好。
适用领域
适用于较硬材料的光学加工,如K9,K7,超薄玻璃基片等的抛光等。
化学成分
TREO>95%, CeO2/TREO>70%
颗粒度
D10(um)
> 1.0
> 0.3
> 0.8
> 1.0
D50(um)
0.5±0.2
1.2±0.2
1.8±0.2
2.6±0.4
D90(um)
< 4.0
< 5.0
< 6.0
< 10

混合稀土抛光粉

型 号
产品特性
通用型低铈抛光粉,棕红色,抛光速度快,价格低。
适用领域
适普通光学镜头、玻壳、镜片、平板玻璃、钮扣、水晶饰品、表门等材料的抛光。
化学成分
TREO>95%, CeO2/TREO>50%
颗粒度
D10(um)
> 0.1
> 0.3
> 0.8
> 1.0
D50(um)
0.5±0.2
1.2±0.2
1.8±0.2
2.6±0.4
D90(um)
< 4.0
< 5.0
< 6.0
< 10
二.氧化铝抛光粉 :

【应用领域】

    1. 电子行业:电子行业单晶硅片的研磨;
    2. 装饰行业:不锈钢餐具及其它装饰材料的抛光;
    3. 喷涂材料:等离子喷涂;
    4. 光学玻璃冷加工。

【产品性能】

颗粒圆滑,不易产生划痕。粒度分布范围窄,硬度高(模氏硬度9),磨削力强,研磨后材料表面质量好。

【技术指标】

指标/级别
PL-A-1
晶型
α
纯度(%)≥
99.99
中位粒径 d50(μm)
0.5-2.0
松装密度 (g/cm3)
0.3-0.6
比表面积 (cm2/g)
5-12

二.氧化铬抛光粉 :

【应用领域】

晶体氧化铬的莫氏硬度为9,仅次于金刚石(10),而与刚玉(氧化铝)、金刚砂(碳化硅)相同。比常见的石英、玛竭(7度),长石(6度),钢铁及玻璃(5.5-6、5度)硬得多,因此广泛用于陶瓷、机械、仪器、钟表、光学玻璃的研磨与抛光。

【产品性能】

颗粒圆滑,不易产生划痕。粒度分布范围窄,硬度高,磨削力强,研磨后材料表面质量好。

【技术指标】

指标/级别
PL-CR-05
PL-CR-20
纯度(%)
≥ 99
≥ 99
中位粒径d50(μm)
0.5
2.0
松装密度(g/cm3)
1.4
1.4
比表面积(cm2/g)
5-12
5-12

 
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